高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料
更新日期：2023-10-29
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高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度：99.99% 中文名 碲 分子量 127.6 原子序数 52 密 度 6.25×10kg/m 熔 点 452℃ 沸 点 1390℃ 标签： 碲靶材 Te靶材 碲靶材 Te靶材 北京市高纯金属 北京市高纯金属厂家 
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